RTP快速退火炉是一种高温热处理设备，将晶片快速加热到设定温度（超过1000℃的高温状态），进行短时间快速热处理的方法，从而控制材料的微观结构的可控调节和物理性能的改善。广泛应用于半导体、光电子、纳米材料等 ...
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