前沿动态 重质非水相液体[DNAPL]场地治理概述 [复制链接]

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京东
氯代有机溶剂污类型的染场地修复充满挑战。氯代有机溶剂是最难去除的地下水污染物之一,尤其是在污染源区域,污染物以重质非水相液体(DNAPL)形态存在的场地。在相当长的时间(约20年)内,很难将氯代有机溶剂污染场地修复到法定标准(低ppb浓度)。
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/ I6 d/ s9 H3 m: D- p& y场地管理者和业主需要了解的是,完全修复这些污染场地需要长时间持续性的修复,并且要使用多种修复技术。取得重大的修复进展需要对污染场地进行详细的了解,设定清晰可行的目标,并且采用多种修复技术。  d) u+ T9 {2 l$ ~8 }; n2 |
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取得有效的进展则需要采取合适的管理策略,在一个修复技术不再具有最佳处理效果时能及时过渡到另一种技术。同时,还需要落实具有针对性的监测方案,并定期地对目标结果的进展进行再评估。
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一个DNAPL污染场地管理策略应该包含以下五个关键特征( o) A3 }/ ^- d: X4 V* p( ?- E
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01
场地概念模型
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场地概念模型(CSM)必须基于可靠的表征方法以及对决定污染物迁移,污染物反应活性和污染物分布的地下环境的理解。CSM是场地特定信息的框架,这些信息能够指导污染场地的管理和修复决策。
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CSM是在制定污染场地策略时最初始的工具,它应该包含以下方面:$ Y8 d* F. @4 y1 m" E+ q, i) Z
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污染场地的地质和水文地质环境( J2 `2 y2 b* R7 I+ G1 K
污染物的物理和化学属性
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物理、化学和生物衰减机理(吸附-解吸过程,氧化反应,微生物还原性脱氯反应)
- g% `& C- c% Y2 M; s! q介质之间及其内部的污染物迁移过程
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02
修复目标

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- B4 N. q% x( d  `( c切实的修复目标以及效果指标是非常重要的,它们清晰,简洁,而且是可衡量的。, B9 a( f, w8 D
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以下是典型的修复目标:
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$ i  P# h8 X1 c) o第一级: 包括治理产生首要威胁的废物在内的污染源残留区域;最小化污染地表土对受体造成的风险;并且针对高浓度污染源地区排入到地下水污染羽的污染物达到至少90%的去除率。
0 J4 J* B+ M! Y第二级: 在修复期间,修复效果监测点中,达到清洁标准/ D: h/ F$ S5 {$ E0 V# L
第三级: 在停止地下水抽出处理系统,并开始监测式自然衰减方法后,确定是否能在合理时间内让所有受污染羽影响的污染带达到清洁标准。/ ?) e+ T" D5 i
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03
修复技术

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修复技术的落实可以依次或者平行进行,以此优化处理效果并且获得潜在的增效作用。' f8 W$ u" k# y9 b/ k9 p/ U  o

- z  V) I! R+ `* P( o典型的技术包含以下:" p. t. j2 K; d/ M" ?. w
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物理方法去除:挖掘,多相抽提,或者热传导、电阻加热法+ E2 r1 K3 g% Y7 e/ S. _9 K
化学、生物方法:原位氧化、还原、生物修复或者监测式自然衰减法
1 |, H( e$ f5 E8 p% c封固法:抽出-处理法,渗透性反应墙,低渗透墙,或者固化稳定化技术" m4 l6 k8 T  o
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04
监测方案
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8 e* D$ }6 E8 I$ r% c监测方案应该基于修复中期目标和最终的清除目标,选定的修复技术和工艺,以及修复效果目标。监测过程必须包括采集充足可靠的修复效果在空间和时间上所体现的数据集。" m! h  I* S" f3 g  w

- o, \7 B( M/ d" c% _5 {" ]为了实现最终的清除目标,需要三种类型的监测:在整个修复周期使用的合规性监测, 该类型监测记录了环境影响的性质和程度以确保潜在的暴露途径得到控制;评估系统是否按照预期运行的进度监测;以及评估修复方法是否实现项目目标的效果监测。地下水监测项目旨在收集表示污染物浓度、污染物降解产物、水化学(pH、Eh、温度)和其它可能影响到地下水中的氯化有机溶剂行为的水化学数据。地下水采样器的设计使其能够获取具有代表性的样品。
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05
方案再评估
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在未达到(修复)目标或者替代方法无效,以及当可以用更小的成本取得更好的(修复)效果时,我们需要重复再评估方案甚至修改(修复)方法。
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! ~9 u  b6 w0 m在进行修复方案再评估时,应回答三个问题:& I: k: m4 }' c" [/ C) P) C
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是否达到运行目标?6 y" B; o' I5 A# {; e2 R
运行目标的进展是否可以接受?6 l+ y; n. n6 d/ c
可以更高效地实现目标吗?
0 g/ e2 z+ v3 d5 |: v" |6 A如果目标没有实现,你如何对修复措施进行补救?
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        如果项目没能够按照可接受的速度或成本实现,那修复方案应该被评估以决定是否需要修改其中一个或多个环节。
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